負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器采用化學(xué)法現(xiàn)場制備二氧化氯并同時進(jìn)行投加的設(shè)備，外形結(jié)構(gòu)為落地柜式。投加水射

器在柜式發(fā)生器內(nèi)。T70G4000生成CLO₂（二氧化氯）的反應(yīng)物：NaCLO₂（亞氯酸鈉）+

HCL（鹽酸）。T70GC4000生成CLO₂的反應(yīng)物：NaCLO₂+HCL+NaCLO（次氯酸鈉）。

T70GT4000生成CLO₂的反應(yīng)物：NaCLO₂+CL₂（氯氣）。所產(chǎn)生CLO₂的生成物含量在

95%以上。該系統(tǒng)為負(fù)壓投加系統(tǒng)（不同于采用計量泵的正壓投加系統(tǒng)）。因而**性及可靠

性更高。

      壓力水流經(jīng)水射器生成負(fù)壓，吸入二氧化氯溶液與水射器投加水混合，投入工藝過程。流入

發(fā)生器的反應(yīng)物，由浮子流量計測量流量。如果是手動操作的發(fā)生器，反應(yīng)物投加量和二氧化氯

發(fā)生量由流量計本身帶的手動閥控制。反應(yīng)物和用以優(yōu)化反應(yīng)的水被抽取進(jìn)入反應(yīng)塔，從塔中流

出的二氧化氯溶液流過一個觀察鏡，可以通過顏色來估計產(chǎn)出量。如果系列為自動控制，流過流

量計的反應(yīng)物由一個三個閥座的CHLOROMATIC閥控制，這個閥的閥芯的形狀可以反映正確的

劑量比。閥的執(zhí)行器可接受外部控制裝置的4~20mA控制信號，自動調(diào)節(jié)二氧化氯的發(fā)生量。

負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 特      點(diǎn)

• 高產(chǎn)出率：CLO₂產(chǎn)生率＞95%
• 運(yùn)行費(fèi)用低：使用商品濃度原料，無需稀釋
• 低維護(hù)費(fèi)用：可動部件少，負(fù)壓運(yùn)行，部件過壓損壞率低
• 準(zhǔn)確：原料進(jìn)入為流量計直接測量，精度高
• 運(yùn)行**：負(fù)壓操作，無產(chǎn)生壓力的泵，無外泄之慮直接投加，不需存儲所產(chǎn)生的CLO₂
• 高效自控：可實(shí)現(xiàn)多種自動控制方式

負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 技術(shù)參數(shù)

• 投加量：T70G4000 80g/h~10kg/h   T70GT4000 15kg/h~30kg/h

                   T70GC4000 350g/h~9kg/h

• 低發(fā)生量：T70G4000  80,150g/h     NaCLO2   7.5%（80g/L，у=1.07）

                     HCL  8.5%（88g/L,у=1.04）

• 消耗：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（23.2mL）+HCL（23.2mL）
• 高發(fā)生量：300g~10kg/h~30kg/h  NaCLO₂  25%（306g/L,у=1.22）

                     HCL  32%（371g/L,у=1.16）  NaCLO  14%（у=1.20）

• 消耗：CLO₂（1g）←→NaCLO₂（6mL）+HCL（4.3mL）

                CLO₂（1g）←→NaCLO₂（4.25mL）+HCL₂（0.55gg）

• 稀釋水壓力：≤150kpa穩(wěn)定
• 控制輸入：4~20mA
• 化學(xué)品容器標(biāo)高：容器底部min1.5m高度
• 水射器工作水壓：max.2.0MPa
• 發(fā)生器環(huán)境溫度：5~30℃，*佳20℃
• 自動控制輸出信號：1.控制閥位4~20mA（1）

                               2.自動手動切換SPDT觸點(diǎn)（1）

                               3.低真空觸點(diǎn)SPDT觸點(diǎn)（1）（選擇項(xiàng)）

                               4.反應(yīng)物缺乏報警SPDT觸點(diǎn)（2）

• 調(diào)節(jié)范圍：建議50~100%投加量
• 控制方式：詳見下圖
• 外形尺寸：610（L）×1524（H）×650（W）mm

注：反應(yīng)物中不能含有氫氟酸。從反應(yīng)物容器至發(fā)生器管路上應(yīng)安裝過濾器。

二氧化氯發(fā)生器投加系統(tǒng)控制方式

      對控制系統(tǒng)配置選擇殘余量及復(fù)合環(huán)路控制需另配分析儀表和外部控制器，系統(tǒng)配置設(shè)計

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A.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程       B.水流量變化和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程

                     手動控制                                               流量比例控制

C.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程  D.水流量變化和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程

           二氧化氯殘余量負(fù)反饋控制            二氧化氯殘余量和水流量復(fù)合環(huán)控制